Wydajność izolacyjna Bazy ceramiczne aluminowe do dokładnych urządzeń pomiarowych i inspekcji przemysłowych

Wydajność izolacyjna Bazy ceramiczne aluminowe do dokładnych urządzeń pomiarowych i inspekcji przemysłowych

Te podstawy ceramiczne aluminowe są wytwarzane z 99,6% wysokiej czystości materiału Al2O3, specjalnie zaprojektowanego do półprzewodników, urządzeń optycznych i precyzyjnych pomiarów.Wyroby z tworzyw sztucznychW przypadku produktów o pojemności 0,01 mm/m i współczynniku rozszerzenia termicznego 7,2×10−6/°C, produkty utrzymują wyjątkową stabilność wymiarową w ekstremalnych temperaturach (-60°C~1500°C) i środowiskach próżniowych (≤10−8Pa).

Podstawowe obszary zastosowań

• Sprzęt półprzewodnikowy: etapy płyt litograficznych, podstawy komór reaktora etyrowego

• Optyka precyzyjna: platformy odniesienia interferometru laserowego, uchwyty do lusterek teleskopów kosmicznych

• Instrumenty analityczne: Etapy pobierania próbek z mikroskopu elektronicznego, wsparcie źródła jonowego spektrometru masowego

• Inspekcja przemysłowa: podstawy maszyn CMM, gramofony do testowania okrągłości

• Nowa energia: Podtrzymacze ogniw paliwowych, nośniki urządzeń do powlekania fotowoltaicznego

Matryca korzyści wynikających z wydajności

Specyfikacje techniczne

Dokładny proces produkcji

1. Przetwarzanie proszku: 0,1 μm proszek o wysokiej czystości z granulacją rozpylającą

2. Proces formowania: Prasowanie izostatyczne (300MPa) w połączeniu z obróbką CNC

3. Technologia spiekania: Sintering gradientowy w temperaturze 1700°C w atmosferze wodorowej

4. Obróbka precyzyjna:

   • Szlifowanie 5-osiowe (± 0,002 mm)

   • Polerowanie magnetoreologiczne (dokładność powierzchni λ/20@632,8 nm)

5. Przetwarzanie w czystych pomieszczeniach: Montaż zakończony w czystym pokoju klasy 100

6. Całkowita inspekcja: Interferometr laserowy + CMM pełna inspekcja wymiarowa

Wytyczne dotyczące instalacji

• Wymogi dotyczące instalacji:
  ✓ Użyj klucza obrotowego (zalecana wartość 1,5±0,2N·m)
  ✓ Korzystaj z specjalnych narzędzi czyszczących
  ✓ Zalecana wstępna regulacja dopasowania termicznego (gradient temperatury < 2°C/min)

• Ograniczenia środowiskowe:
  ️ Unikaj kontaktu z kwasem fluorowodorowym
  
  Nie nadaje się do ciągłego utleniania > 1600°C

Zaangażowanie w służbę

• Wsparcie techniczne: Bezpłatna analiza stresu FEA

• Szybka reakcja: 72-godzinnego przyspieszonego serwisu

• Zarządzanie identyfikowalnością: 10-letnie kompletne zapisy produkcji

• Wsparcie w zakresie certyfikacji: dostarczone dokumenty certyfikacyjne SEMI/FDA/ISO

Częste pytania

P: Jak zapewnić zgodność termiczną z elementami z węglanu krzemu?
A: Dostępna konstrukcja przejścia gradientu CTE (regulowana 7,2-4,5×10−6/°C)

P: Maksymalne wymiary do przetwarzania?
A: Obecne ograniczenie techniczne 500×500×100 mm (wymagane specjalne narzędzia)

P: Czy modyfikacja przewodzenia jest obsługiwana?
A: Dostosowalne wersje antystatyczne o oporności powierzchniowej 104-1010Ω

P: Jak gwarantuje się czystość płytki?
A: Ostateczna sterylizacja VHP (parowany nadtlenek wodoru)